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光華科技:引領高端鍍銅技術(shù)新發(fā)展,深度解讀IC封裝基板圖形填孔添加劑設計及性能研究
信息來源:光華科技2024-06-04

核心導讀


在國家戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)高端化、智能化發(fā)展的浪潮中,電子電鍍行業(yè)作為其中的關鍵一環(huán),正迎來前所未有的發(fā)展機遇與挑戰(zhàn)。近期,備受矚目的2024泛大灣區(qū)電子電鍍高質(zhì)量發(fā)展論壇在廣州盛大舉行,匯聚了行業(yè)精英、企業(yè)高管和專家學者,共同探討了包括高端電子制造中的電子電鍍技術(shù)應用及發(fā)展趨勢、功率芯片埋入式封裝中銅金屬互連技術(shù)挑戰(zhàn)、取代銅合金的高強度電鍍銅材料-納米孿晶銅等電子制造領域的前沿技術(shù)與發(fā)展趨勢。在此次論壇上,光華科技憑借其在高端鍍銅領域的深厚積累與成果,受邀作《高端鍍銅之圖形填孔添加劑設計及性能研究》主題演講,展現(xiàn)了其在該領域的領先地位和創(chuàng)新能力,引發(fā)廣泛關注。


在當天的演講中,光華科技技術(shù)中心主任教授級高工劉彬云以其深厚的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,深入解析了圖形填孔技術(shù)的基本原理和關鍵技術(shù)挑戰(zhàn)。他指出,在封裝基板領域的酸性鍍銅技術(shù)中,圖形電鍍與微孔填充是關鍵環(huán)節(jié),而復雜圖形對陰極表面附近的對流擴散傳質(zhì)帶來的挑戰(zhàn),使得高鍍厚均勻性的添加劑成為技術(shù)突破的關鍵。劉彬云高工詳細介紹了光華科技在核心添加劑設計、圖形填孔性能測試方面的研究成果,并提出了全方位研究添加劑作用機理及性能評價體系的構(gòu)想,旨在建立相關標準,確保高端鍍銅添加劑的穩(wěn)定性、可靠性和標準化。

此次演講不僅展示了光華科技在高端鍍銅領域的創(chuàng)新實力,也體現(xiàn)了其對行業(yè)未來發(fā)展的深刻洞察和前瞻思考。光華科技作為電子電鍍行業(yè)的領軍企業(yè),一直致力于推動高端鍍銅技術(shù)的研發(fā)與應用,不斷突破技術(shù)瓶頸,提升產(chǎn)品品質(zhì),為行業(yè)發(fā)展注入新動力。

值得一提的是,就在2024年的1月,由光華科技牽頭,聯(lián)合科研院所、用戶企業(yè)、終端應用等單位共同承擔的省重點領域研發(fā)計劃“電子化學品”重點專項“高端鍍銅添加劑及其應用技術(shù)的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項目正式啟動。該項目旨在建立具有自主知識產(chǎn)權(quán)的技術(shù)體系,引領我國高端鍍銅產(chǎn)業(yè)技術(shù)的發(fā)展。光華科技攜手深圳先進電子材料國際創(chuàng)新研究院、廣東東碩科技有限公司、廣州興森快捷電路科技有限公司、工業(yè)和信息化部電子第五研究所等單位,從“理論支撐-技術(shù)攻關-應用示范-標準制定”全創(chuàng)新鏈展開研究,突破高端鍍銅核心原料分子結(jié)構(gòu)合成、多物理場添加劑配方設計等關鍵技術(shù),推動高端鍍銅技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化進程。


此次論壇的圓滿舉行,不僅為電子電鍍行業(yè)注入了新的活力,也為行業(yè)未來的發(fā)展指明了方向。隨著國家戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)高端化、智能化發(fā)展的深入推進,電子電鍍行業(yè)將迎來更加廣闊的發(fā)展空間和更加嚴苛的挑戰(zhàn)。光華科技將繼續(xù)秉承創(chuàng)新、務實、高效的企業(yè)精神,立足國家級科研平臺,協(xié)同產(chǎn)學研用的聯(lián)動與創(chuàng)新,推動行業(yè)向著更加高質(zhì)量、智能化的未來邁進,助力提升中國電子制造業(yè)全球競爭力,為中國電子電鍍技術(shù)的突破貢獻更多智慧。


新聞來源 | 國際表面處理展

通訊員 |?Guo J.

編輯?|?Li?Y.C.

審核 |?Lin Z.K. / Liu B.Y.


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